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氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑測試方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號： GB/T 41751-2022
替代情況：
發(fā)布單位： 國家市場監(jiān)督管理總局 國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
起草單位： 中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所、蘇州納維科技有限公司、中國電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所 等
發(fā)布日期： 2022-10-12
實(shí)施日期： 2023-02-01
點(diǎn) 擊 數(shù)：
更新日期： 2023年01月11日
內(nèi)容摘要

本文件規(guī)定了利用高分辨X射線衍射儀測試氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑的方法。
本文件適用于化學(xué)氣相沉積及其他方法制備的氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑的測試，氮化鎵外延片晶面曲率半徑的測試可參照本文件進(jìn)行。

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